簡介
LDS NI 200是一種獨特而穩定的中磷化學鎳工藝，可電鍍出光滑的半光亮鎳鍍層，附著性好。鍍層光亮度均勻，鍍速穩定。該工藝耐高溫性操作穩定性好，可無氨操作。
LDS NI 200操作成本較低；可用作防擴散的阻隔或化學銅鍍層后防變色抗氧化的最終表面涂層。
工藝優點
l 化學鎳溶液穩定性高；
l 電阻低；
l 配合 LDS PD ACTIVATOR使用，選擇性啟鍍更快。
